光谱纯石墨内坩埚操作规范与温度控制

光谱纯石墨内坩埚操作标准与温度操控

升温与降温速率

升温速率≤10℃/min，避免因热应力导致石墨开裂；降温阶段需随炉冷却至室温，制止急冷。

温度上限与均匀性

最高运用温度≤2800℃（视具体材料），但主张长时间运用温度不跨过2500℃以延伸寿数。

需协作高温炉的均温区规划，保证坩埚受热均匀，温差≤±5℃。

样品装载

样品量不跨过坩埚容积的2/3，避免高温胀大导致溢出或坩埚分裂。

制止直接触摸酸性或强氧化性物质（如浓硫酸、王水），需运用慵懒衬垫（如高纯氧化铝片）阻隔。

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