光谱纯石墨内坩埚材料特性与预处理要求

光谱纯石墨内坩埚资料特性与预处理要求

纯度与结构

有必要选用光谱纯级石墨（纯度≥99.99%），保证杂质含量低于ppm级，避免搅扰元素（如Fe、Cu、Ni等）对分析成果的影响。

石墨需具有高密度、低孔隙率结构，以减少高温下气体吸附与释放，避免实验过程中引入污染。

预处理流程

清洁处理：运用前需经超声清洗（去离子水+乙醇）去除外表加工残留，再经高温灼烧（1100℃，2小时）去除有机物与吸附杂质。

惰性气氛维护：预处理及运用全程需在氩气或氮气维护下进行，避免氧化导致的结构劣化。

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